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技術(shù)論壇

提升格局,看清EMC

來(lái)源: 時(shí)間:2022-04-15 08:28:18 瀏覽次數:

“格局”,本意指的是一個(gè)人對于自己所處小環(huán)境、大環(huán)境的“局勢、態(tài)勢”的認知;“視野”,本意指的是,一個(gè)人所能觀(guān)察或認識到的的范圍或者說(shuō)程度。提升格局,就能讓你看到更大的世界,這種感覺(jué)就像是“XX,為什么之前我就沒(méi)想到?”,這說(shuō)明你接收到了來(lái)自更高段位的信息,而在這信息出現之前,你幾乎是想破腦袋也沖不過(guò)去那個(gè)關(guān)卡的。格局之所以提升不了,是因為視野受限,看不到或根本不想看到更高層次的認知。

  提升格局就是要把“難以接受”這種情感舍棄掉,事物的核心是客觀(guān)的與你認知無(wú)關(guān)不,它就在那里,你能否看清它,取決于你的視野與格局。你不能說(shuō)因為你從小到大都被一種輿論洗腦,所以現在“難以接受”就是正確的,那你就永遠找不到它。

提升格局第一條:擴大視野

  當我們的視野限制在一定有限的范圍時(shí),作出看似最適合自己的決定,給出了認為最正確的評價(jià),然而,當把聚焦的范圍擴大,剛才正確的決定和主觀(guān)評價(jià)可能就不再正確,而影響這些的,都是由于空間發(fā)生改變,空間內的對象發(fā)生改變,因此規則就隨之改變。

  做人如此,做技術(shù)如此,做EMC技術(shù)也是如此。舉個(gè)例子,分析輻射發(fā)射問(wèn)題時(shí),也許都會(huì )一致認為,布置在印制板中的高速印制線(xiàn)(如時(shí)鐘信號線(xiàn)、PWM信號線(xiàn)等)會(huì )產(chǎn)生輻射,如圖1所示:

1 印制線(xiàn)產(chǎn)生輻射示意圖

 

  于是,把處理的措施全聚焦在這根印制線(xiàn)上。給它加濾波,輻射變低了,進(jìn)一步堅定的認為就是這根時(shí)鐘線(xiàn)在產(chǎn)生輻射,思路和視野停留在了這根信號線(xiàn)上??墒?,一根印制線(xiàn)不應該是信號的全部,電信號的傳遞都是閉環(huán)的。信號線(xiàn)從左傳遞至右側,再從右側的信號地返回,組合成一個(gè)完整的信號回路,這才是這個(gè)完整的信號傳遞。于是分析發(fā)現,輻射并不是這根印制線(xiàn)產(chǎn)生的,而是這根印制線(xiàn)所在的環(huán)路產(chǎn)生的,原理如圖2所示。


2 環(huán)路產(chǎn)生輻射原理圖

 

  信號環(huán)路產(chǎn)生輻射的概念告訴我們,當信號線(xiàn)的地回流地線(xiàn)無(wú)限的接近這根信號線(xiàn)時(shí),信號環(huán)路產(chǎn)的輻射會(huì )變零。于是,控制PCB中的信號環(huán)路面積是產(chǎn)品EMC設計的基本要求。你的視野范圍變大了,不再只關(guān)注那根信號線(xiàn)。然而,在高速電路板設計時(shí),信號的環(huán)路面積是非常容易被控制的,最簡(jiǎn)單有效的措施就是鋪設地平面。當地平面存在于高速信號線(xiàn)下方時(shí),信號線(xiàn)的環(huán)路面積是信號線(xiàn)長(cháng)度與層間距的乘積,信號頻率低于GHz時(shí),其產(chǎn)生的輻射基本不會(huì )超過(guò)標準的限值。

  那是不是等于產(chǎn)品的輻射就控制住了?遠遠不是,我們需要再進(jìn)一步擴大自己的視野??匆幌聢D3,圖中PCB上的高頻信號在“0V”地上回流時(shí),由于地上的阻抗也會(huì )產(chǎn)生壓降ΔV,這個(gè)電壓再驅動(dòng)圖中右側與之相連的電纜,就產(chǎn)生的流向外部的共模電流,當此共模電流流過(guò)電纜時(shí),由于電纜的長(cháng)度較長(cháng),具備等效發(fā)射天線(xiàn)的條件,就產(chǎn)生了輻射,這種輻射叫共模輻射,它是產(chǎn)品輻射超標的典型原理。相比于只看到信號環(huán)路輻射的人,看到共模輻射的人的視野更大。


3 典型共模輻射原理圖

 

  按工程常見(jiàn)的EMC思路:“出現EMC測試不能通過(guò),馬上想著(zhù)去定位問(wèn)題、去找問(wèn)題的根源”,那么圖3所示的輻射到底是誰(shuí)造成的?”有人會(huì )回答是電纜;有人回答是地阻抗;有人回答還是那個(gè)信號線(xiàn)。遺憾的是正確答案即不是電纜、不是地阻抗、也不是信號,而是電纜+地阻抗+信號,是三者共同組合在一起形成的“系統”導致內部的高頻信號源通過(guò)地阻抗傳遞至等效發(fā)射天線(xiàn)。所謂解決EMC問(wèn)題,不是努力尋找所謂的“源頭”(因為根本沒(méi)有“源頭”),而是把“系統”破壞。圖3所示的案例中,降低信號頻率、降低地阻抗、取消電纜等效發(fā)射天線(xiàn)等都是可以的。這里提到的“系統”可以理解為 是一個(gè)過(guò)程。過(guò)程中的各點(diǎn)不是EMC問(wèn)題的全部,只是組成部分。解決emc問(wèn)題的本質(zhì)是破壞這個(gè)過(guò)程。只要過(guò)程能破壞,問(wèn)題就能解決。

   為什么我們老想著(zhù)要去定位問(wèn)題,那是因為受視野的局限性,看到的都是局部,同時(shí)也混淆了“問(wèn)題產(chǎn)生的原因”與“解決問(wèn)題的入手點(diǎn)”是兩回事。就像吃藥可以治好病,但生病的原因不一定是因為沒(méi)吃藥??磥?lái)只有當視野大到能看到全局時(shí),才能看到真正的問(wèn)題,因為問(wèn)題就在全局中。

 

提升格局第二條:善于觀(guān)察與分析

  每一種事物都有自己的核心,這就是它的運行行原理,當你想去觀(guān)察、分析、評價(jià)的時(shí)候,要記得把它的內核給挖出來(lái)。有些事在有些人眼里,非常顯而易見(jiàn),但在另一些人眼里,好像難以接受。正確的面對這種難以接受,然后用更長(cháng)的時(shí)間跨度和更大的空間跨度去看待問(wèn)題、分析問(wèn)題、解決問(wèn)題,無(wú)論你得到的結論看起來(lái)有多荒謬,都比之前的思考要好。

    具備以上分析視野的工程人員,已經(jīng)非常不錯了,但是EMC問(wèn)題錯綜復雜,光有這些視野是不夠的。假設圖3所示的EMC問(wèn)題被低阻抗的地平面設計解決,那么電纜的輻射就不會(huì )再有了嗎?顯然不是,舉個(gè)例子就是圖4所示原理產(chǎn)生的問(wèn)題。圖中的時(shí)鐘信號線(xiàn)通過(guò)串擾的方式將時(shí)鐘信號串擾到I/O信號線(xiàn)上,而I/O信號線(xiàn)傳遞至電纜時(shí)就產(chǎn)生了輻射。這個(gè)案例中,光有較低的地阻抗是沒(méi)有用的。相比于圖3所示的問(wèn)題,圖4所示輻射問(wèn)題的產(chǎn)生過(guò)程顯然更為復雜。工程人員只有善于觀(guān)察與分析,才能逐步深入其中,洞悉其奧秘。


4  串擾引起的EMI輻射原理圖

 

提升格局第三條:直擊事物的核心

  對于圖3原理所示的EMC問(wèn)題,有個(gè)措施可以降低輻射,那就是圖5所示的接地,即將電纜端口的工作地接至機殼。當工作地在電纜端口接殼體時(shí),共模電流被旁路在產(chǎn)品內部,電纜中的共模電流大大降低,輻射也大大降低。此方法是產(chǎn)品EMC設計中常用的措施,是產(chǎn)品EMC設計的核心之一,也是EMC風(fēng)險評估的風(fēng)險要素之一。


5 電纜端口接地降低輻射

 

可是,就是這樣的一種設計,會(huì )碰到以下一種案例:

  如圖6所示表達了一種系統中部件之間的互連電纜產(chǎn)生的輻射。圖6中部件2中的高速信號線(xiàn)S2回流時(shí),在地平面上產(chǎn)生的地噪聲電壓ΔV2驅動(dòng)左側的電纜使互連電纜上產(chǎn)生共模電流產(chǎn)生輻射。若部件1的PCB板工作地不接機殼,圖6所示的共模電流需要通過(guò)部件1中PCB與殼體之間的分布電容CP返回到殼體再回到部件1。這樣的設計雖然部件1的PCB的地沒(méi)有與殼體互連,但是測試也許是能通過(guò)的。


6 系統中部件之間的互連電纜產(chǎn)生的輻射

 

   但是,當圖6所示的部件1被圖7所示的部件1所取代時(shí),由于圖7所示的部件1的PCB的工作地與機殼在電纜端口是互連的,就導致系統中應ΔV2驅動(dòng)而流過(guò)互連電纜的共模電流變大,于是輻射發(fā)射也變大了。


7 系統中部件1中PCB接殼體后互連電纜產(chǎn)生的輻射

 

  對比圖6所示的部件1的EMC設計和圖7所示的部件1的EMC設計,按圖5所描述的結論,明顯圖7所示部件1的EMC設計要比圖6所示部件1的EMC設計要更好。但是,就是這樣一個(gè)更好的EMC設計放在系統中,效果反而變差了。

  實(shí)際應用中,假設這個(gè)系統原先按圖6所示設計,并且EMC測試已經(jīng)通過(guò),圖6中的部件1由A供應商提供。某一天,供應商B設計了一個(gè)圖7所示的部件1,按圖5所示原理分析,供應商B提供的部件1在單獨的EMC性能上要比供應商A提供的要更好。但是當它放入系統中時(shí),系統就出現的EMC問(wèn)題,表現為輻射發(fā)射超標。工程中經(jīng)常出現的案例表現通常是,當系統中某個(gè)部件被代替后,原來(lái)沒(méi)有EMC問(wèn)題的系統變得有EMC問(wèn)題,系統設計者通常會(huì )把問(wèn)題都會(huì )歸罪于替代品,而不愿意相信是其它問(wèn)題。導致這種思路的原因是試圖去單一的拆解原本是系統的EMC問(wèn)題。正確的分析思路不應該僅聚焦在部件1,也不應該僅聚焦在部件2,而是要直擊事物核心,聚焦在整個(gè)系統,用全局視野去看EMC問(wèn)題。你會(huì )發(fā)現圖7的部件1設計并沒(méi)有缺陷,缺陷在于圖7所示的部件2,即部件2設計時(shí)沒(méi)有實(shí)現工作地與殼體之間在電纜端口連接。

 當部件1設計也有缺陷時(shí),部件2的缺陷也被掩蓋了,但是,當部件1設計良好時(shí),部件2的設計缺陷就被暴露。簡(jiǎn)單的說(shuō),部件1良好的EMC設計暴露了部件2EMC設計的缺陷。這就是人過(guò)分的優(yōu)秀會(huì )暴露別人的缺陷的道理,但是我們要有慧眼直擊事物的核心來(lái)判別什么是優(yōu)秀。

 可見(jiàn):

EMC問(wèn)題的產(chǎn)生是一個(gè)“過(guò)程”,而不是個(gè)別“點(diǎn)”;

產(chǎn)品有多復雜,EMC就有多復雜,要善于分析,只有產(chǎn)品設計時(shí)全方面的考慮各種因素(風(fēng)險評估給出了19個(gè)因素),并保證一定數量的因素得到控制,才能最終獲得較高的EMC性能,通過(guò)EMC測試;

產(chǎn)品設計者一定要用系統的眼光分析任何一個(gè)EMC現象,隨著(zhù)分析對象的范圍擴大,看到的EMC問(wèn)題也越趨完整;

擴大視野才會(huì )收獲更多信息,提升格局方能看透EMC本質(zhì)。


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